色资源_日本精品一区二区三区视频_欧美久久综合_aaaaaa黄色片_日韩高清成人_一区不卡
首頁
產品中心
關于我們
公司新聞
技術文章
成功案例
聯系我們
ARTICLE
技術文章
當前位置:
首頁
技術文章
激光直寫制作光刻掩膜板繪圖容易出現哪些錯誤
激光直寫制作光刻掩膜板繪圖容易出現哪些錯誤
更新時間:2023-09-01
點擊次數:1441
DLW-RD-Photonics
是一款專為光子芯片集成領域設計的高性能激光直寫設備,擁有高精度納米級3D加工能力與高精度定位對準能力。設備配備高精度的共聚焦掃描系統和熒光探測系統,確保在光子芯片表面精確對準3D打印。Nanostudio軟件配備功率補償功能,可實現在芯片端面的高精度加工,消除聚焦遮擋區域的影響,為光子芯片集成領域的微細結構提供精準打印。
制作光刻版的工藝流程:
a、繪制版圖文件;
b、轉圖,生成設備可曝光的文件格式,曝光圖形;
c、顯影,露出鉻層;
d、蝕刻,使用Cr蝕刻液濕法腐蝕;
e、使用濕法去除光刻掩膜版上的光刻膠層,并清洗甩干。
常見繪圖錯誤:
a、無填充;
b、圖形不封閉、
c、有多余線段;
d、字符無寬度;
e、圖形合并錯誤;
f、隱藏圖層;
g、弧線不圓滑;
h、圓形圖案曝光出錯;
I、文件數據量過大等,都會造成圖檔轉換失敗,或者圖檔雖然轉換成功,但是設備有一定幾率發生錯誤曝光,導致制版失敗、甚至造成設備電腦死機等嚴重問題,為避免問題的發生概率,請認真學習軟件的使用規則和版圖設計要求。
上一個:
納米針:未來醫療的革命性工具
返回列表
下一個:
激光直寫的基礎工作原理
服務熱線
0535-2981985
掃碼加微信
關于我們
公司簡介
榮譽資質
新聞文章
公司新聞
技術文章
成功案例
聯系我們
聯系方式
在線留言
地圖導航
產品導航
三維微納加工/納米3D打印
超快激光微納加工中心
無掩膜直寫光刻設備
Copyright © 2025魔技納米科技有限公司 All Rights Reserved 備案號:
魯ICP備2022010272號-1
技術支持:
化工儀器網
管理登錄
sitemap.xml
聯系方式:0535-2981985
掃碼加微信
魯公網安備 37069302000947號